Block Copolymer Nanolithography for Sub-50 nm Structure Applications
När de kritiska mönsterdimensionerna för högteknologiska enheter fortsätter krympa och mönstertätheten fortsätter öka, behöver även litografin att gå i samma riktning. En lovande teknologi är sampolymerlitografi, som har en upplösning under 10 nm, en mönsterperiodicitet omkring 7-200 nm, och lätt kan skalas upp till större ytor till en låg kostnad. Användandet av sampolymerer där de ingående blockAs high technology device patterns are continuing to move towards decreasing critical dimensions and increasing pattern density, there is a need for lithography to move in the same direction. Block copolymer (BCP) lithography is a promising technique, which has single digit nanometer resolution, has a pattern periodicity of about 7-200 nm, and easily scales up to large area at a low cost. The use