Development of Nanoimprint Lithography for Applications in Electronics, Photonics and Life-sciences
Popular Abstract in Swedish I denna avhandling diskuteras olika aspekter av tillverkning av nanostrukturer med nanoimprint litografi (NIL). Detta är en relativt ny metod som möjliggör snabb tillverkning av högupplösta strukturer på stora ytor. För att skapa dessa strukturer med NIL använder man sig av mekanisk deformation av mönstringsmaterialet. Detta skiljer sig från de mer etablerade mönstringsThis thesis describes different aspects of nanotechnology manufacturing with nanoimprint lithography (NIL), a relatively new nanofabrication tool capable of high resolution and high throughput. Surface structure creation with NIL is based on mechanical deformation of the patterning material. This is radically different from the two main established methods, ultra violet lithography (UVL) and elect
