Model-based Analysis and Design of Atomic Layer Deposition Processes
Popular Abstract in Swedish Tunna skikt av olika material har en framträdande roll inom både vetenskap och teknik idag. Det bakomliggande intresset för denna typ av ytbeläggningar är främst möjligheten att kombinera egenskaper hos de tunna filmerna med övriga egenskaper från det underliggande materialet för att därigenom erhålla förbättrade kemiska, mekaniska eller elektriska egenskaper. DärutöverAtomic layer deposition (ALD) is a thin-film manufacturing process in which the growth surface is exposed to non-overlapping alternating injections of gas-phase chemical precursor species separated by intermediate purge periods to prevent gas-phase reactions. ALD is characterized by sequential self-terminating heterogeneous reactions between highly reactive gas-phase precursor species and surface-